Applicare un sottile strato conduttivo su campioni non conduttivi risulta efficace nell’eliminare gli effetti di carica (Charging) o nell’aumentare l’emissione di elettroni secondari dal campione.
L’utilizzo di basse tensioni di accelerazione di sputtering, così come avere il campione isolato dall’elettrodo, riduce al minimo la possibilità di danneggiare il campione.
Lo spessore dello strato depositato dipende dalla distanza campione – target e dal tempo di deposizione selezionato:
Target Oro (Au): distanza (WD) campione – target 20mm > Spessore depositato: 5nm@1min, 10nm@2min.